Hitec Zang 高壓反應釜和自動化反應系統(tǒng)以模塊化的形式構建， 包含高壓反應釜、加熱冷卻系統(tǒng)、磁力攪拌系統(tǒng)、多種形式的氣體、液體給料系統(tǒng)在內(nèi)個多種組件，用于氧化反應、氫化反應、羰基化反應、聚合反應等反應全自動化控制。

1、Hitec Zang 高壓反應釜

Hitec Zang 高壓反應釜，具有以下特點：

ü  10 ml 到 250 ml 的反應器

ü  壓力高達300 bar

ü  溫度高達300 °C

ü  純金屬蓋密封

ü  重量加料

ü  磁力攪拌器或磁耦合的頂部攪拌器

其中100-250ml高壓反應釜，采用螺絲擰緊的法蘭蓋，帶7個接口，其中3個接口在蓋外面易于連接，中心的連接是磁力耦合的攪拌頭。反應釜由不銹鋼或者合金制作，可以通過加熱套加熱，通過冷卻板或者內(nèi)部冷卻回路進行冷卻。攪拌采用磁力攪拌頭，可選40或80Ncm扭矩。

儀器有電加熱套的加熱，磁力攪拌頭的攪拌，溫度控制器。

連接件有：1個攪拌用軸，1根溫度控制的浸入管，1個金屬片，用于最大壓力下的安全限制。1個壓力顯示，1個減壓閥，1個自由支配的，可用于氣體取樣或者液體取樣。

可選項包括：氣體注入模塊，液體或氣體取樣，通過冷卻板或冷卻環(huán)的冷卻，哈氏合金或其他合金。

2、Hitec Zang 高壓反應釜自動化系統(tǒng)

Hitec Zang 高壓反應釜系統(tǒng)用于高壓下的反應，尤其是多相的反應系統(tǒng)?？刹捎?span>10-250ml的反應器，max壓力可達300bar或400bar, max溫度可達300或400℃，由于使用純金屬的壓力密封蓋，該系統(tǒng)可實現(xiàn)精確測量氣體的消耗量。多種加熱、冷卻系統(tǒng)、磁力攪拌系統(tǒng)及體積或者重量的氣體或液體給料系統(tǒng) ，都可配備。HiClave 系統(tǒng)可以是單個或者多個平行反應系統(tǒng)，除標準配置外，定制化的設計可滿足客戶多種需求。

Hitec Zang 高壓反應釜和自動化反應系統(tǒng)

加氫反應模塊可實現(xiàn)：

ü  惰性氣體的自動沖洗

ü  自動密封性試驗

ü  用MFC測量氣體消耗量

ü  數(shù)值的記錄

ü  可選獨立使用設備

除高壓平行反應，還有其他類型的平行反應系統(tǒng)，可以實現(xiàn)：

ü  個性化、高動態(tài)的溫控系統(tǒng)

ü  模塊化 & 靈活性

ü  全自動系統(tǒng)

ü  250 , 400 ml

ü  簡便快速處理

自動化平行反應系統(tǒng)的特點：

ü  一個電腦及軟件可控制多個系統(tǒng)

ü  反應器參數(shù)的全自動化控制，如進料速度，溫度、壓力、PH及攪拌等

ü  單個反應器*獨立的操作條件

ü  多種給料方式可選（液體、固體和氣體、重量和體積等）

ü  自動化取樣可選

ü  惰性材料：玻璃、聚四氟乙烯

ü  多個單獨反應器共用一臺冷卻器

ü  方便且快速的處理（更換反應器<1分鐘）

ü  可單獨擴展和升級

ü  24小時無人值守運行